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英特尔宣布世界首台商用 High NA EUV 光刻机完成组装,计划明年投入研发使用

感谢秒收录网友华南吴彦祖的线索投递!秒收录4月19日消息,英特尔今日宣布其已在位于美国俄勒冈州希尔斯伯勒的FabD1X研发晶圆厂完成世界首台商用HighNA(0.55NA)EUV光刻机的组装工作,目前已进入光学系统校准阶段。▲图源英特尔新闻稿这台光刻机型号TWINSCANEXE:5000,为ASML的首代HighNAEUV光刻机,价值...

更新时间:2024-04-25 10:04:46

英特尔 High NA EUV 光刻机今年晚些时候投入研发工作,有望在三代节点沿用

秒收录4月22日消息,英特尔近日宣布完成世界首台商用HighNAEUV光刻机的安装。而在上周的一场电话会议上,英特尔院士马克・菲利普斯(MarkPhillips)表示这台耗资约3.5亿美元(秒收录备注:当前约25.38亿元人民币)的庞然大物。菲利普斯是英特尔代工旗下逻辑技术开发部门的光刻、硬件和解决方案主管。他表示英特尔将于今年晚些时...

更新时间:2024-04-25 07:48:57


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